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-HO-HI gaseous mixture using a silica membraneHwang, G.; 小貫 薫; 清水 三郎
AIChE Journal, 46(1), p.92 - 98, 2000/01
被引用回数：38 パーセンタイル：77.7(Engineering, Chemical)熱化学法ISプロセスのヨウ化水素分離反応への適用を目的として、CVD法によりシリカ膜を作製し、H-HO-HI混合ガスからの水素分離特性を評価した。平均孔径10mmの細孔を有する多孔質アルミナ管に、TEOSを原料とするCVD法によりシリカ被覆処理を施して、有効膜長20mm(S膜)及び100mm(L膜)の分離膜を試作した。試作に際して、シリカ蒸着量の制御により細孔閉塞度を制御して、低いHI透過速度及び高いH透過速度を発現させることを試みた。He/N選択性を指標としてシリカ蒸着量を制御した結果、600
においてH/N選択性が53,9.2,4.1,135,6.6を示す膜(S1,S2,S3,L1,L2)を得た。300~600におけるH-HO-HI混合ガス分離実験の結果、水素透過速度に対する共存ガスの影響は小さくないこと、また、H/HO及びH/HI分離係数がそれぞれ3及び150以上であることを明らかにした。特に、S3膜は、10
mol/Pa・m
・sオーダーの水素透過速度を有し、かつ、450において高いH/HI分離係数(650)を示した。
木下 正弘
AIChE Journal, 32(5), p.872 - 874, 1986/00
被引用回数：5 パーセンタイル：54.24(Engineering, Chemical)揮発度のきわめて高い成分が存在する段分離プロセスの動的シミュレーションにおいては、蒸気ホールドアップを考慮しないとシミュレーション結果に大きな誤差を伴うことをはじめて指摘し、蒸気ホールドアップを考慮した場合の動的シミュレーション用の基本式を導出した。提案したモデル中では、水力学的効果、拡散抵抗、あるいは熱収支式は考慮していないが、蒸気ホールドアップがこれらのファクターよりもはるかに重要となり得る場合があることを示した。
川上 和市郎; 町 末男
AIChE Journal, 19(1), p.94 - 101, 1973/01
被引用回数：5反応器内における線量率分布が不均一な場合、活性種は反応器内に不均一に生ずることになり、活性種の有効利用の立場から不利である。系に撹拌を施すことにより、これがいかに改善されるかを理論的に研究した。この問題に対するアプローチの方法は、撹拌槽内における循環流に注目して、流体が槽内を循環することにより周期的な照射を受けるとの考え方に基づいている。この方法に基づいてアクリルアミド水溶液の電子線による重合反応を例にとって撹拌の効果を検討した。その結果、(1)重合速度、数平均分子量は撹拌速度と共に増大し、槽内平均線量率で均一照射を受けた場合の値に近づく、(2)分子量分布については、低速撹拌下では2つのピークを有するが、撹拌速度を増すに従って1つのピークになる、(3)吸収エネルギーが同じ場合には、重合速度を最低にする線量分布があることなどが予想されることを明らかにした。さらに完全混合時の重合速度に近い値を得る所要撹拌速度を求める方法も示した。
川上 和市郎; H.S.Isbin*
AIChE Journal, 16(3), p.502 - 505, 1970/00
被引用回数：2抄録なし
